0.3-0.5 मिमी सक्रिय एल्युमिना माइक्रोस्फीयर

0.3-0.5 मिमी सक्रिय एल्यूमिना माइक्रोस्फेयर छोटे कण सक्रिय एल्यूमिना सामग्री हैं जो एक नियमित गोलाकार संरचना के साथ तैयार की जाती हैं। उनके पास एक उच्च विशिष्ट सतह क्षेत्र और एक तर्कसंगत छिद्र संरचना होती है, जो उन्हें एक सीमित स्थान के भीतर एक उच्च प्रभावी संपर्क क्षेत्र और तेज़ सोखने की गतिशीलता प्रदान करने में सक्षम बनाती है।

यह उत्पाद विशेष रूप से नमी और अशुद्धता नियंत्रण, सूक्ष्म शुद्धिकरण और विशेष सोखने की स्थिति के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो सिस्टम स्थिरता और नियंत्रणीयता को बनाए रखते हुए सोखने की दक्षता सुनिश्चित करता है।

✔ छोटे कण आकार, बेहतर सोखना दक्षता

प्रति इकाई आयतन का उच्च प्रभावी विशिष्ट सतह क्षेत्र

तेज़ सोखना और सोखना प्रतिक्रिया गति

सूक्ष्म अशुद्धियों और बारीक प्रसंस्करण आवश्यकताओं के लिए अधिक उपयुक्त

✔ नियमित सूक्ष्ममंडल संरचना, अधिक स्थिर बिस्तर

लोडिंग के बाद उच्च गोलाकारता, एकसमान बिस्तर

चैनलिंग जोखिम को कम करता है, सिस्टम विश्वसनीयता में सुधार करता है

तर्कसंगत तनाव वितरण, ऑपरेशन के दौरान टूटना और चूर्णन को कम करता है

✔ अनुकूलित संरचना, प्रदर्शन और जीवनकाल को संतुलित करना

उचित छिद्र आकार वितरण अच्छे द्रव्यमान स्थानांतरण प्रदर्शन को सुनिश्चित करता है

स्थिर माइक्रोस्फीयर कंकाल, एकाधिक पुनर्जनन और पुन: उपयोग का समर्थन करता है

निरंतर संचालन या उच्च स्थिरता आवश्यकताओं वाले सिस्टम के लिए उपयुक्त

0.3-0.5 मिमी सक्रिय एल्यूमिना माइक्रोस्फीयर का व्यापक रूप से उच्च सामग्री प्रदर्शन आवश्यकताओं वाले औद्योगिक अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है, जिनमें शामिल हैं, लेकिन इन्हीं तक सीमित नहीं हैं:

औद्योगिक और विशेष गैसों का उत्तम शुद्धिकरण

सूक्ष्म नमी और अशुद्धियों का अवशोषण

सूक्ष्म रासायनिक प्रक्रियाओं में सोखना और पृथक्करण इकाइयाँ

छोटे या सटीक उपकरणों के लिए उच्च बिस्तर एकरूपता और प्रतिक्रिया गति की आवश्यकता होती है

विशेष उत्प्रेरक प्रणालियों में कार्यात्मक समर्थन

कण आकार: 0.3–0.5 मिमी

आकार: गोलाकार

Al₂O₃ सामग्री: 93.5% से अधिक या उसके बराबर

थोक घनत्व: ~0.68–0.75 ग्राम/सेमी³

सतह क्षेत्र: अनुकूलित छिद्र संरचना के साथ उच्च सतह क्षेत्र

कुचलने की ताकत: छोटे कण आकार के अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त

Q1: कौन सी प्रणालियाँ 0.3–0.5 मिमी सक्रिय एल्यूमिना माइक्रोस्फीयर के लिए उपयुक्त हैं?

ए: यह कण आकार विशेष रूप से सोखना दर, बिस्तर एकरूपता और अंतरिक्ष उपयोग के लिए उच्च आवश्यकताओं वाले सिस्टम के लिए उपयुक्त है, जैसे औद्योगिक गैसों की गहरी सुखाने, ठीक रासायनिक सोखना, उत्प्रेरक संरक्षण बिस्तर और प्रयोगशाला उपकरण।

Q2: क्या उत्पाद के चूर्णित होने का खतरा है?

उत्तर: नहीं। उत्पाद प्रबलित मोल्डिंग और छानने की प्रक्रियाओं से गुजरता है, जिसके परिणामस्वरूप सामान्य महीन कण अवशोषक की तुलना में कम सूक्ष्म {1}पाउडर सामग्री और बेहतर पहनने का प्रतिरोध होता है।

Q3: क्या आप अनुकूलित मापदंडों का समर्थन करते हैं?

उत्तर: हाँ. विशिष्ट सतह क्षेत्र, छिद्र की मात्रा, ताकत और पैकेजिंग विशिष्टताओं को आपकी विशिष्ट परिचालन आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित किया जा सकता है।

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