एल्यूमिना एक महत्वपूर्ण अकार्बनिक सामग्री है जिसका उपयोग रासायनिक इंजीनियरिंग, धातुकर्म, सिरेमिक, इलेक्ट्रॉनिक्स और अन्य क्षेत्रों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। उनके क्रिस्टल संरचना और भौतिक रासायनिक गुणों के आधार पर, एल्यूमिना को साधारण एल्यूमिना में विभाजित किया जा सकता है औरसक्रिय एल्यूमिना। यद्यपि वे एक ही रासायनिक संरचना साझा करते हैं, वे माइक्रोस्ट्रक्चर, विशिष्ट सतह क्षेत्र, सोखना प्रदर्शन और औद्योगिक अनुप्रयोगों में महत्वपूर्ण अंतर प्रदर्शित करते हैं।
रासायनिक संरचना और क्रिस्टल संरचना
एल्यूमिना:
- मुख्य रूप से एक घने क्रिस्टल संरचना और एक छोटे विशिष्ट सतह क्षेत्र (आमतौर पर) के साथ स्थिर -al₂o₃ से बना है<10 m²/g).
- स्वाभाविक रूप से होने वाले रूपों में कोरंडम और माणिक शामिल हैं।
सक्रिय एल्यूमिना:
-ज्यादातर संक्रमण-चरण क्रिस्टल जैसे -al₂o₃ या η-al₂o₃, एक ढीले, छिद्रपूर्ण संरचना और एक बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र (200-400 m}\/g) की विशेषता है।
- कम तापमान निर्जलीकरण के माध्यम से उत्पादित, उच्च सतह गतिविधि को बनाए रखना।
भौतिक गुणों की तुलना
| संपत्ति|सक्रिय एल्यूमिना|साधारण एल्यूमिना |
|---------------------|----------------------------------|---------------------------------|
| विशिष्ट सतह क्षेत्र|उच्च (200-400 m}\/g)|कम (<10 m²/g) |
| पोरसिटी|झरझरा संरचना|घनी संरचना |
| सोखना क्षमता|मजबूत (adsorb पानी, फ्लोराइड, आदि)|लगभग कोई सोखना क्षमता नहीं |
| Thermal Stability | Transforms to α-phase at high temperatures (>1000 डिग्री)|स्थिर (पिघलने बिंदु 2054 डिग्री) |
तैयारी के तरीकों की तुलना
सक्रिय एल्यूमिना:
400-600 डिग्री पर एल्यूमीनियम हाइड्रॉक्साइड को शांत करके, नियंत्रित तापमान के साथ -phase गठन से बचने के लिए निर्मित।
साधारण एल्यूमिना:
Obtained through high-temperature calcination (>1200 डिग्री), सीधे स्थिर -ल -ओ।
आवेदन क्षेत्रों की तुलना
सक्रिय एल्यूमिना:
Adsorbent: सूखने वाली गैसें\/तरल पदार्थ, फ्लोराइड को पीने के पानी से हटाने।
उत्प्रेरक समर्थन: पेट्रोकेमिकल अनुप्रयोग (जैसे, हाइड्रोजनीकरण, desulfurization)।
क्रोमैटोग्राफिक भराव: पृथक्करण और शुद्धि के लिए उपयोग किया जाता है।
साधारण एल्यूमिना:
अपघर्षक सामग्री: सिरेमिक, पीस एजेंट।
दुर्दम्य सामग्री: उच्च तापमान भट्ठी लाइनिंग, क्रूसिबल।
इन्सुलेटर: इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए सब्सट्रेट।
प्रमुख अंतर सारांश
गतिविधि अंतर: सक्रिय एल्यूमिना में हाइड्रॉक्सिल-समृद्ध सतह और असंतृप्त बॉन्ड होते हैं, जो उच्च रासायनिक गतिविधि का प्रदर्शन करते हैं, जबकि साधारण एल्यूमिना निष्क्रिय है।
आवेदन भेदभाव:सक्रिय एल्यूमिनासोखना और कटैलिसीस के लिए उपयोग किया जाता है, जबकि साधारण एल्यूमिना को संरचनात्मक सामग्रियों के लिए पसंद किया जाता है।